论文摘要
近些年,国际专利保护水平不断提高,我国专利保护力度也在加大。国内外对于加强专利保护对创新活动的影响颇有争议,这种影响因国家、行业、时间的不同而不同。本文用目前最为先进的方法——修正后的G-P指数,测算了我国专利保护强度指数,采用我国17个三位编码高技术行业1995年到2007年13年间的面板数据,实证检验了专利保护对我国高技术行业不同层次的创新(自创性创新、改良或模仿性创新)投入、产出和创新效率所产生的影响,并进一步分析了产生这种影响的原因,认为专利保护会促进自创性创新而减少改良或模仿性的创新。论文共分五个部分：引言首先介绍了本文的研究背景与意义,通过归纳专利保护制度的争议界定了本文的研究范围,交代了作者的研究思路与方法,界定了本文两个最重要的概念：专利保护和技术创新,指出了对二者的测度方法；第二章是相关文献综述,综述了国内外在相关理论和实证分析中的进展；第三章分析了我国1995年到2007年专利保护强度和高技术行业创新活动的变化情况。在回顾了新中国专利法的实施与修改进程后,综合国外学者创立的G-P方法和国内学者的改进,用一系列指标对专利保护水平进行了量化,计算了我国13年间的专利保护强度指数。然后通过绘图考察了以R&D经费内部支出为代表的高技术行业的创新投入、以R&D经费中基础研究和应用研究费用为代表的自创性创新投入、以专利拥有数和新产品销售收入为代表的创新产出以及创新效率变化情况,提出了三个基本假设,对专利保护加强所产生的影响做了推测。假设一：我国专利保护强度与高技术行业的R&D内部支出存在显著正相关关系；假设二：专利保护强度对高技术行业拥有发明专利数、新产品销售收入存在显著正面影响；假设三：专利保护强度对我国高技术行业的创新效率无显著影响。第四章在对国外相关经典模型修正的基础上,建立了三个回归方程,选取适合论文所用数据的控制变量,分别实证了专利保护强度与我国高技术行业创新投入、产出和创新效率之间的关系,以检验第三章所提出的三个假设是否成立,揭示专利保护与创新活动之间可能存在的深入关联。第五章是结论。实证检验结果并不支持假设一,表明我国高技术行业的R&D经费内部支出与专利保护强度之间显著负相关,基础研究与应用研究经费内部支出与专利保护强度正相关,由于基础研究与应用研究经费投入在总体R＆D中所占比重较小,加强专利保护减少了我国高技术行业总体的创新研发投入。假设二也不成立,专利保护对我国高技术行业创新专利产出的影响与专利保护强度变化快慢有关,专利保护强度指数增长率与专利产出之间呈现出“U”字型,我国1995年到2007年间大多是处于“U”字的左侧。专利保护与高技术行业的新产品销售收入是倒“U”字型关系,且基本处于倒“U”字型的左侧,二者正相关。加强专利保护会促进自创性专利产出增加,减少改良或模仿性专利产出,我国高技术行业自创性创新活动比重太小,加强专利保护减少了创新的专利产出。结果还显示专利保护对我国高技术行业的创新效率无显著影响,假设三成立,说明二者之间无直接关联,但专利保护会通过影响行业竞争度和市场结构而对创新效率产生间接影响。最后本文认为我们需要较强的专利保护,以提高高技术行业自创性的高层次创新在整个创新活动中所占比重,增强我国的自主创新能力,持续推动技术进步。